產(chǎn)品展示
小型濺射儀：共搜索到10 個(gè)符合條件的產(chǎn)品
| 產(chǎn)品圖片 | 產(chǎn)品名稱 | 產(chǎn)品簡單介紹 |
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磁控濺射金屬膜 磁控濺射金靶 | 磁控濺射金屬膜 磁控濺射金靶 |
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科研小型真空PVD金屬鍍膜機(jī) | 磁控濺射金屬膜是一種利用磁控濺射技術(shù)制備的金屬薄膜材料。這種材料具有優(yōu)異的物理性能，如高硬度、高耐磨性、高反射率等，被廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子、機(jī)械等領(lǐng)域。 |
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真空PVD納米涂層金屬鍍膜機(jī) | 、樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)，多樣品同時(shí)鍍膜時(shí)，鍍膜厚度比較均勻。 2、預(yù)濺射擋板功能，剛開始鍍膜的時(shí)候腔室里會(huì)有些雜質(zhì)，擋板可以保護(hù)樣品，提高薄膜質(zhì)量 3、帶有水冷系統(tǒng)，可以長時(shí)間濺射鍍膜，厚度可達(dá)1微米以上 |
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科研小型真空PVD納米涂層金屬鍍膜機(jī) | 磁控濺射金屬膜是一種利用磁控濺射技術(shù)制備的金屬薄膜材料。這種材料具有優(yōu)異的物理性能，如高硬度、高耐磨性、高反射率等，被廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子、機(jī)械等領(lǐng)域。 |
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小型磁控濺射儀 | 小型磁控濺射儀成為了科研人員不可或缺的一部分。這種設(shè)備以其獨(dú)特的優(yōu)勢，如高精度、高效率、易于操作等，得到了廣泛的應(yīng)用。然而，要想充分發(fā)揮小型磁控濺射儀的優(yōu)勢，使用者需要注意一些使用方法和注意事項(xiàng)。 |
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小型磁控濺射儀 噴鍍導(dǎo)電層 | 樣品噴鍍導(dǎo)電層是指在金屬或非金屬表面噴涂一層具有導(dǎo)電性能的薄膜，從而使其具有防靜電、導(dǎo)電等功能。在小型磁控濺射儀中，我們可以將靶材設(shè)定為具有導(dǎo)電性能的金屬材料，如銅、鎳等。通過高速粒子轟擊靶材表 |
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科研小型PVD真空鍍膜機(jī) 磁控濺射噴鍍導(dǎo)電納米涂層薄膜 | 作為科研小型PVD真空鍍膜機(jī)，磁控濺射噴鍍導(dǎo)電納米涂層薄膜是一種先進(jìn)的納米材料制備技術(shù)。該技術(shù)利用磁控濺射原理，將靶材表面的原子或分子撞擊出來，并利用電場的作用，使其沉積在基材表面，形成一層具有一定 |
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CVD有哪些類型 小型濺射儀KT-Z1650PVD | 物理氣相沉積（PVD）是一種在目標(biāo)表面上形成薄膜或涂層的過程，該過程涉及將材料從固態(tài)轉(zhuǎn)化為氣態(tài)。這可以通過多種方式實(shí)現(xiàn)，如蒸發(fā)、濺射、電弧等。這種沉積方法適用于多種材料，包括金屬、合金、陶瓷和塑料等 |
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KT-Z1650PVD是一款小型臺(tái)式濺射功率可控磁控濺射儀 | KT-Z1650PVD是一款小型臺(tái)式濺射功率可控磁控濺射儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)，樣品高度調(diào)節(jié)，及電動(dòng)擋板功能。通過定時(shí)調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率，可對(duì)大部分金屬進(jìn)行 |
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真空小型離子濺射儀 磁控濺射鍍膜機(jī) | 磁控濺射鍍膜機(jī)是一種利用磁場控制下的高速粒子撞擊靶材表面，使得靶材表面的原子被激發(fā)并沉積到基材表面形成薄膜的設(shè)備。 |