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小型真空熱蒸發(fā)鍍膜機(jī) 電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備 小型真空熱蒸發(fā)鍍膜機(jī) 電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備 KT-Z1650PVD是一款小型臺(tái)式濺射功率可控磁控濺射儀,具有體積小、功能齊全的特點(diǎn)。雖然體積小巧,但該儀器配備了電壓電流反饋、樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)、樣品高度調(diào)節(jié)以及電動(dòng)擋板功能,使得其在沉積金屬薄膜時(shí)具有
科研小型熱蒸發(fā)CVD金屬鍍膜機(jī) 科研小型熱蒸發(fā)CVD金屬鍍膜機(jī) KT-Z1650CVD是一款小型臺(tái)式蒸發(fā)功率可控蒸發(fā)鍍膜儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn),樣品高度調(diào)節(jié),及電動(dòng)擋板功能。通過(guò)定時(shí)調(diào)節(jié)預(yù)熱功率及蒸發(fā)功率,可對(duì)大部分金屬進(jìn)行均勻蒸
小型七寸觸屏控制真空蒸鍍儀 電壓可調(diào)大小 時(shí)間可控 速率高 小型七寸觸屏控制真空蒸鍍儀 電壓可調(diào)大小 時(shí)間可控 速率高 材料科學(xué)研究:在材料科學(xué)研究中,小型真空蒸鍍儀可以用于制備各種薄膜材料,如金屬膜、非金屬膜、半導(dǎo)體膜等,為材料性能的研究提供了有力的支持。
小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD 小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD CVD(化學(xué)氣相沉積)是一種制備無(wú)機(jī)和有機(jī)材料的化學(xué)過(guò)程,其基礎(chǔ)是利用氣態(tài)的化學(xué)物質(zhì)在溫度和壓力作用下,在固體表面或內(nèi)部形成沉積層。CVD技術(shù)可以制備出多種類(lèi)型的材料,包括金屬、合金、陶瓷、化合物和
小型蒸鍍儀 熱蒸發(fā)鍍膜機(jī) 小型蒸鍍儀 熱蒸發(fā)鍍膜機(jī) KT-Z1650CVD是一款小型臺(tái)式蒸發(fā)功率可控蒸發(fā)鍍膜儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn),樣品高度調(diào)節(jié),及電動(dòng)擋板功能。通過(guò)定時(shí)調(diào)節(jié)預(yù)熱功率及蒸發(fā)功率,可對(duì)大部分金屬進(jìn)行均勻蒸
科研真空小型蒸鍍機(jī) 電阻熱蒸發(fā)鍍膜儀納米涂層鍍膜是真空鍍膜機(jī) 科研真空小型蒸鍍機(jī) 電阻熱蒸發(fā)鍍膜儀納米涂層鍍膜是真空鍍膜機(jī) 納米涂層鍍膜是真空鍍膜機(jī)
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