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產(chǎn)地:河南鄭州

規(guī)格:臺

公司所在地:河南鄭州

電話:15136405012

1741240035  
詳細信息

小型磁控濺射儀的簡單介紹

KT—Z1650PVD是一款小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓,電流反饋,樣品臺旋轉(zhuǎn),樣品高度可調(diào)節(jié)及電動擋板功能。

小型磁控濺射儀的詳細信息

小型磁控濺射儀KT-Z1650PVD水冷式濺射源,可實現(xiàn)高功率持續(xù)運行,有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉(zhuǎn),樣品高度調(diào)節(jié),及電動擋板功能。通過定時調(diào)節(jié)預濺射功率及薄膜沉積功率,可對大部分金屬進行均勻物理沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜。

電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞,電離出大量的氬離子和電子,電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛倫茲力的影響,被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內(nèi),該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高,二次電子在磁場的作用下圍繞靶面作圓周運動,該電子的運動路徑很長。

小型磁控濺射儀KT-Z1650PVD廠家供應技術參數(shù);

控制方式

7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

濺射電源

直流濺射電源

鍍膜功能

0-9995段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

功率

≤1000W

輸出電壓電流

電壓≤1000V 電流≤1A

真空

機械泵 ≤5Pa5分鐘) 分子泵≤5*10^-3Pa

濺射真空

≤30Pa

擋板類型

電控

真空腔室

石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

樣品臺

可旋轉(zhuǎn)φ62 (可安裝φ50基底)

樣品臺轉(zhuǎn)速

8轉(zhuǎn)/分鐘

樣品濺射源調(diào)節(jié)距離

40-105mm

真空測量

皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa 1E-1Pa

預留真空接口

KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口


以上是小型磁控濺射儀的詳細信息,如果您對小型磁控濺射儀的價格、廠家、型號、圖片有任何疑問,請聯(lián)系我們獲取小型磁控濺射儀的最新信息

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