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低溫等離子體凈化設(shè)備環(huán)保設(shè)備

作者:森然 來源:森然環(huán)保 2022-07-25 瀏覽量:122
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低溫等離子體凈化技術(shù)是近年來發(fā)展起來的廢氣治理新技術(shù)。等離子體被稱為物質(zhì)的第4種形態(tài),由電子、離子、自由基和中性粒子組成。低溫等離子體有機氣體凈化就是利用介子放電所產(chǎn)生的等離子體以極快的速度反復(fù)轟擊廢
    技術(shù)介紹:
    低溫等離子體凈化技術(shù)是近年來發(fā)展起來的廢氣治理新技術(shù)。等離子體被稱為物質(zhì)的第4種形態(tài),由電子、離子、自由基和中性粒子組成。低溫等離子體有機氣體凈化就是利用介子放電所產(chǎn)生的等離子體以極快的速度反復(fù)轟擊廢氣中的異味氣體分子,去激活、電離、裂解廢氣中的各種成分,通過氧化等一些列復(fù)雜的化學(xué)反應(yīng),打開污染物分子內(nèi)部的化學(xué)鍵,使復(fù)雜的大分子污染物轉(zhuǎn)變?yōu)橐恍┬》肿拥陌踩镔|(zhì)(如二氧化碳和水),或使有毒有害物質(zhì)轉(zhuǎn)變?yōu)闊o毒無害或低毒低害的物質(zhì)。
    其反應(yīng)機理為:
    等離子體化學(xué)反應(yīng)過程中,等離子體傳遞化學(xué)能量的反應(yīng)過程中能量的傳遞大致如下
    (1)電場+電子→高能電子
    (2)高能電子+分子(或原子)→(受激原子、受激基團、游離基團)活性基團
    (3)活性基團+分子(原子)→生成物+熱
    (4)活性基團+活性基團→生成物+熱
    過程一:高能電子直接轟擊
    過程二:產(chǎn)生氧原子、臭氧、羥基自由基及小分子碎片
    O2+2e→2O·
    O2+O·→O3+e
    H2O+2e→H·+HO·
    H2O+O·+e→2HO·
    H·+O2→HO·+O
    C(a+b)H(m+n)O(x+y)+2e→CaHmOx·+CbHnOy·
    過程三:分子碎片氧化
    CaHmOx+HO·→CO2+H2O
    CaHmOx+O·→CO2+H2O
    CaHmOx+O2→CO2+H2O
    CaHmOx+O3→CO2+H2O
    經(jīng)過低溫等離子凈化后,廢氣尚含有部分小分子的物質(zhì)及臭氧,采用水洗工藝可以對污染物進行進一步處理,同時減少廢氣中臭氧含量。相關(guān)反應(yīng)機理如下:
    H2O+e→H·+HO·+e
    H·+O3→O2+HO·
    HO·+O3→HO2·+O2
    HO2·+O3→HO·+O2
    因此在此過程中,部分小分子有機物可進一步被羥基自由基氧化而予以去除。

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