今年以來,美國連續(xù)發(fā)布的幾項禁令,讓我國芯片產(chǎn)業(yè)發(fā)展舉步維艱。禁令對于芯片技術和供應鏈的切斷,讓國內(nèi)基本喪失了在高端芯片領域發(fā)展的能力。但這樣的局面并不會一直持續(xù)下去,11月14日,據(jù)央視財經(jīng)報道,我國依托張江地區(qū)的創(chuàng)新努力,已經(jīng)實現(xiàn)了芯片光刻機從無到有的突破拿到“入場券”,這將為我國芯片自強和崛起帶來極大助力!
眾所周知,光刻機是芯片制造中最核心的機器,被譽為半導體產(chǎn)業(yè)“皇冠上的明珠”。每顆芯片在誕生之初,都需要經(jīng)過光刻機的雕刻,且精度要達到頭發(fā)絲的千分之一。對于一個國家的芯片發(fā)展來說,光刻機必不可少。但光刻機的研發(fā)和制造卻難度極大,由于系統(tǒng)工程非常復雜,涉及數(shù)十萬零部件和高端技術,一直以來掌握光刻機制造技術國家不多。
截至目前,全球光刻機市場主要玩家仍只有荷蘭、美國和日本,發(fā)展基本被其所壟斷。其他國家與企業(yè)要想制造和生產(chǎn)芯片,都必須從ASML、尼康、佳能等企業(yè)購買光刻機。一臺光刻機的價格不僅昂貴,而且獲取還十分不易,因此發(fā)展經(jīng)常需要看他人的臉色。但如今,我國也擁有了光刻機的“入場券”,這意味著未來在芯片發(fā)展上再也不用受制于人。
對于我國來說,擁有了光刻機“入場券”,代表了我國芯片產(chǎn)業(yè)的自立更生和自強發(fā)展重新燃起了希望。此前華為創(chuàng)始人任正非在談到制裁時曾表示,華為面臨的最大困難是國內(nèi)芯片基礎制造跟不上,其所談論的問題就包括光刻機。而眼下,國產(chǎn)光刻機獲得如此突破,無疑解決了困擾華為長期以來的心病。但欣喜之余,我們也還需要保持客觀和理性。
就現(xiàn)實情況來說,我國才剛剛?cè)腴T光刻機領域,不管在產(chǎn)品質(zhì)量和技術方面,仍然與“御三家”存在明顯差距。目前,ASML的光刻機已經(jīng)達到7nm級別,而我國還在尋求28nm的突破,發(fā)展落后不止一點點?;诖耍瑖a(chǎn)發(fā)展取得突破固然可喜,但也不能過分驕傲和樂觀。未來國產(chǎn)芯片是否能取得理想中的發(fā)展,還需要我們繼續(xù)在光刻機方面加大努力。